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六氟化硫
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年产六氟化硫12000吨（纯度能达到国标近5N标准）、电子级四氟化碳2000吨
四氟甲烷(CF4)是目前微电子工业中用量较大的等离子蚀刻气体，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和 磷硅玻璃等材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄 漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它 的化学稳定性极强，CF4 还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和 发展趋势是超纯、超净和多品种、多规模，各国为推动本国微电子工业的发展，越来越重视发展特种电子 气体的生产技术。CF4 以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体的市场，因此具有广阔的发展潜力
六氟化硫是一种无色、无臭、无毒和无腐蚀性的化合物。在常温常态下呈气态，为不燃气体，是化学稳定性较好的非金属氧化物。由于具有优良的化学和热的稳定性，在保证纯度的情况下，500℃温度下也不会被分解。由于具有优良的绝缘性能和减弧能力，即使在电弧下发生瞬间分解、电离，但在电弧消减后也能很迅速的恢复到原有的稳定状态，故利用它的高度化学稳定性和出色的电气绝缘特性，广泛地利用与电气工业和超高压绝缘材料。此外它还具有传热系数大，冷却效果好的特点。
