四氟化碳

概要:四氟甲烷(CF4)是目前微电子工业中用量较大的等离子蚀刻气体,广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和 磷硅玻璃等材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄 漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它 的化学稳定性极强,CF4 还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和 发展趋势是超纯、超净和多品种、多规模,各国为推动本国微电子工业的发展,越来越重视发展特种电子 气体的生产技术。CF4 以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体的市场,因此具有广阔的发展潜力

028-83753281

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化学品中文名:四氟甲烷

化学品英文名:Tetrafluoromethane

产品简介: 四氟甲烷,又称四氟化碳,无色,无味,无嗅气体。不溶于水,常压下25℃时为0.0015%,溶于氯仿和苯。本品无毒、不燃。高浓度时有麻醉作用。其高纯气及其配高纯氧气的混合气,是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体,也可作为低温制冷剂、低温绝缘介质。化学稳定性及热稳定性均好,对许多试剂呈惰性,在1000℃下不水解。常温下不与铜、镍和钨反应。由于C-F键的化学稳定性极强,因此以CF4为代表的全氟烃可认为是基本无毒的。

 

科美特

 

规格 执行标准 最大承压 CF4充装重量
(单位:kg)
43.3L无缝钢瓶 DOT3AA 2265Psi 28
47L无缝钢瓶 DOT3AA 2175Psi 30
48.8L无缝钢瓶 DOT3AA 2400Psi 32
440L Y瓶 DOT3AA 2400Psi 300
470L Y瓶 DOT3AA 2400Psi 320

 

电子级工业用气体四氟化碳企业内控标准

(Q/78269158-9.01-2018)

项目名称

指    标

四氟化碳纯度CF4(体积分数)/10-2        ≥

99.999

氧+氩含量O2+Ar(体积分数)/10-6        <

1.0

氮含量N2(体积分数)/10-6           < 

3.0

六氟化硫SF6(体积分数)/10-6         <

1.0

一氧化碳CO (体积分数)/10-6        <

0.1

二氧化碳CO2(体积分数)/10-6        <

1.0

水分H2O(体积分数)/10-6              <

3.0

酸度HF(体积分数)/10-6              <

0.1

总碳氢化合物THC(CH4)(体积分数)/10-6      <

1.0

其它卤碳化合物OHC(体积分数)/10-6    <

1.0

总杂质含量(体积分数)/l0-6        ≤

10.0

颗粒

供需双方协商

  特别说明:如客户有控制指标要求,则按照我司与客户协议指标为准。

 

理化特性

外观与性状:常温常压下无色、无味气体
PH值:无资料 熔点/凝固点(℃):-183.6
沸点(℃)-127.9 (101.3KPa) 闪点(℃):无意义
气体密度(21.1℃;101.3KPa):3.65kg/m3 相对密度(空气=1):3.09
燃烧热(KJ/mol):无资料 饱和蒸汽压(kpa):13.33(-150.7℃)
临界温度(℃):-45.7 临界压力(MPa):3.745
n-辛醇/水分配系数:无资料 爆炸上限%(v/v);无意义
爆炸下限%(v/v):无意义 溶解性:不溶于水

 

特别说明:如客户有控制指标要求,则按照协议指标为准。

关键词: 四氟化碳

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